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2026-09
星期 五
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晶体管的结构及类型用不同的掺杂方式在同一个硅片上制造出三个掺杂区域，并形成两个PN结，就构成了晶体管。结构如图(a)所示，位于中间的P区称为基区，它很薄且杂质浓度很低；位于上层的N区是发射区，掺杂浓度很高；位于下层的N区是集电区，
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半导体二极管的伏安特性：二极管的基本特性是单向导电性（注：硅管的导通电压为－；锗管的导通电压为－），而工程分析时通常采用的是.半导体二极管的伏安特性曲线：（通过二极管的电流Ｉ与其两端电压Ｕ的关系曲线为二极管的伏安特性曲线。）见图三
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按晶体管使用的半导体材料可分为硅材料晶体管和锗材料晶体管.按晶体管的极性可分为锗NPN型晶体管、锗PNP晶体管、硅NPN型晶体管和硅PNP型晶体管.晶体管按其结构及制造工艺可分为扩散型晶体管、合金型晶体管和平面型晶体管.晶体管按电
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快恢复二极管：有的正向导通压降，35-85nS的反向恢复时间，在导通和截止之间迅速转换，提高了器件的使用频率并改善了波形。快恢复二极管在制造工艺上采用掺金，单纯的扩散等工艺，可获得较高的开关速度，同时也能得到较高的耐压。目前快恢复
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晶体管主要分为两大类：双极性晶体管（BJT）和场效应晶体管（FET）.晶体管有三个极；双极性晶体管的三个极，分别由N型跟P型组成发射极（Emitter）、基极（Base）和集电极（Collector）；场效应晶体管的三个极，分别是
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