服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
28
2026-09
星期 一
-
广州高温磁控溅射步骤 广东省科学院半导体研究所供应
在磁控溅射靶材的回收与再利用领域，研究所开发了环保型再生工艺。针对废弃靶材的成分特性，采用机械研磨与化学提纯相结合的预处理方法，去除表面氧化层与杂质，再通过磁控溅射原理进行靶材再生——将提纯后的材料作为靶材，通过溅射沉积于新的衬底
-
28
2026-09
星期 一
-
广州专业磁控溅射优点 广东省科学院半导体研究所供应
在当前微电子和光电材料领域，具备磁控溅射技术的企业扮演着关键角色，尤其在非金属薄膜制备方面。非金属薄膜涉及多种功能性材料，如氧化铟锡（ITO）、氮化硅（SiN）等，这些材料的溅射沉积对设备性能和工艺控制提出了较高要求。企业在选择合
-
28
2026-09
星期 一
-
广州金属磁控溅射处理 广东省科学院半导体研究所供应
该研究所将磁控溅射技术应用于太阳能电池的效率提升，开发了新型减反射与背场薄膜制备工艺。采用中频闭场不平衡磁控溅射技术，在晶硅电池表面沉积SiNx减反射膜，通过调控薄膜厚度与折射率，使电池光吸收率提升8%。同时，利用直流磁控溅射制备
-
28
2026-09
星期 一
-
广州智能磁控溅射工艺 广东省科学院半导体研究所供应
金属薄膜磁控溅射技术支持涉及从设备操作、工艺参数优化到故障诊断的全过程技术服务。用户在应用磁控溅射技术时，常面临工艺稳定性、薄膜均匀性和设备维护等挑战。技术支持团队需要熟悉磁控溅射的物理原理，包括高能粒子与靶材的碰撞机制以及溅射原
-
27
2026-09
星期
-
广州高温磁控溅射工艺 广东省科学院半导体研究所供应
设计附着力好的磁控溅射方案需综合考虑溅射参数、基板处理、靶材选择及温度控制等多方面因素。通过调整射频电源功率和直流脉冲电源参数，控制溅射粒子能量和溅射速率，优化薄膜的微观结构和界面结合。基板预处理步骤如等离子清洗，有效去除表面杂质
推荐资讯